高純材料生產和封裝專用氬氣凈化器、純化裝置（帶氮通道直讀光譜儀專用）可與美國熱電，德國斯派克、OBFL、布魯克；瑞士ARL，日本島津，北京納克，英國阿朗，北京瑞利等多家光譜儀公司生產的直讀光譜儀、熒光光譜儀、輝光光譜儀配套使用，以增強分析數據的可靠性和穩定性，同時可以較大的節省購買高純氬氣的成本。RZ-YA-4C尤其適用于與帶氮通道的直讀光譜儀配套使用，同時該凈化機也可用作高純材料（如單晶硅、多晶硅、高純金屬）生產的保護氣氛。
凈化原理
該凈化機利用催化劑促使氬氣中的微量氧氣與碳反應生成二氧化碳，從而除去氬氣中的雜質氧氣，再利用分子篩吸附脫除氬氣中的H2O、CO2等雜質，再利用合金吸附劑吸附脫除氬氣中剩余的的N2等惰性雜質，即可得到高純氬氣。
氬氣凈化機的技術參數
對原料氬氣要求
一般瓶裝純氬，液氬、控制較好的管道氬氣。
雜質要求： O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。
輸出純氣
純度：99.9999%
雜質含量：
O2≤0.1PPm，
H2O≤1PPm(即露點≤－76℃)，
N2≤0.5PPm
CO+CO2≤0.1PPm，
S、P的氧化物≤0.1PPm。
塵埃粒子數（≥0.3μm）3-5個／升。
工作壓力：0.4-1.5MPa。
處理氣量：4NM3/h(其余流量需要定制）。
