TJ金屬掩膜版蒸鍍掩模板激光精密切割精密加工

掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的，因為他們決定著器件的極限尺寸。除了紫外線，電子束和X射線也能用來對光刻膠進行曝光 。

掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機中，掩模版作為一個光學元件位于會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模版上的圖形縮小4~10倍（現(xiàn)代光刻機一般都是縮小4倍）后投射在晶圓表面。為了區(qū)別于接觸式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又稱為倍縮式掩模（reticle）  。

掩膜版功能：

掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的底片。制造商通常根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機在原材料上光刻出 相應的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設(shè)計好的圖案，通過透光與非透光方式進行圖像（電路圖形）復制，從而實現(xiàn)批量生產(chǎn)。

梁工